Máscara reparadora y antioxidante con Centella Asiática, Niacinamida y Ceramidas. Reestructura, hidrata y calma la piel mientras refuerza la barrera cutánea. Uso profesional.

La Centella Mask es una máscara reparadora de alta performance formulada para restaurar la piel luego de procedimientos o exposiciones al estrés oxidativo.
Contiene Centella Asiática (5%), Niacinamida (2%), Ceramidas (2%) y D-Pantenol (2%), una combinación que potencia la regeneración celular, calma la irritación y refuerza la función barrera.

Su textura cremosa y emoliente deja una sensación de alivio inmediato, aportando hidratación profunda y luminosidad.
Especialmente indicada para pieles sensibles, desvitalizadas, con rosácea o sometidas a peelings y limpiezas profundas.

Uso exclusivo profesional, ideal como fase final de protección en protocolos de cabina.

Beneficios

• Repara y calma la piel post-tratamiento.
• Refuerza la barrera cutánea y evita la pérdida de agua transepidérmica.
• Hidrata profundamente y mejora la elasticidad.
• Protege contra la luz azul y el estrés oxidativo.
• Mejora el confort y la uniformidad del tono.

Activos

• Centella Asiática 5% → Regeneradora, cicatrizante y calmante.
• Niacinamida 2% → Antioxidante, despigmentante y seborreguladora.
• D-Pantenol 2% → Hidratante, antiinflamatorio y reparador.
• Ceramidas 2% → Reconstituyen la barrera cutánea y evitan la deshidratación.
• Urea 0.5% → Hidratante fisiológico que suaviza y mejora la textura.

Modo de uso:
En gabinete: aplicar una capa uniforme sobre rostro, cuello y escote en la fase de protección.
Dejar actuar entre 15 y 20 minutos. Retirar con esponjas húmedas o paños tibios.
Uso domiciliario: no indicado.