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title: "Centella Mask – Reparadora Reestructurante y Antioxidante. Zine"
description: "Máscara reparadora, reestructurante y antioxidante con Centella Asiática 5%, Niacinamida 2%, D-Pantenol 2%, Ceramidas 2% y Urea 0,5%. La Centella aporta terpenos que estimulan la producción de colágeno 1 y 3, saponinas venotónicas, ácidos grasos omega 6 y 9, y xeaxantinas + luteína para protección contra luz azul de alta energía (HEV). Cicatrizante, antioxidante, antiséptica, antiinflamatoria, despigmentante, formadora de barrera y reductora de pérdida transepidérmica.  La Centella Asiática tiene una composición tan compleja que la mayoría de las marcas la simplifica a \"cicatrizante y calmante\" —y pierden lo más valioso. En esta máscara se trabaja a concentración real del 5%, lo que permite aprovechar su perfil completo: los terpenos (asiaticósido, madecasósido) estimulan directamente la producción de colágeno 1 y 3 en el fibroblasto dérmico; las saponinas venotónicas refuerzan la pared capilar y mejoran la microcirculación; los ácidos grasos omega 6 y 9 nutren la barrera lipídica; y las xeaxantinas y luteína funcionan como filtros de luz azul de alta energía (HEV), protegiendo el ADN celular del daño fotoinducido por pantallas y luz solar de onda corta. A ese núcleo se suma la Niacinamida 2% —despigmentante, antiinflamatoria y seborreguladora— junto a D-Pantenol 2% para hidratación y reparación activa del tejido, Ceramidas 2% para reconstituir el cemento intercelular de la capa córnea y Urea 0,5% como humectante fisiológico que suaviza la textura. Una fórmula limpia, sin fragrance ni parabenos ni siliconas ni mineral oil, indicada especialmente como paso de protección post-procedimiento.  ¿Qué hace por la piel de tu paciente?   	Estimula colágeno 1 y 3: los terpenos de la Centella activan la síntesis de colágeno en el fibroblasto, reforzando la estructura dérmica y mejorando la firmeza a largo plazo.  	Protege contra luz azul (HEV): las xeaxantinas y luteína de la Centella filtran la luz azul de alta energía, protegiendo el ADN celular del fotodaño por exposición a pantallas y luz solar de onda corta.  	Cicatrizante y antiséptica: la Centella y el D-Pantenol aceleran la reparación tisular, con efecto antimicrobiano sobre bacterias y hongos patógenos.  	Antiinflamatoria multimecanismo: Centella, Niacinamida y D-Pantenol actúan en sinergia para calmar el eritema y reducir la inflamación —ideal post-peeling, post-dermapen o post-limpieza profunda.  	Reestructura la barrera: las Ceramidas se integran al cemento intercelular de la capa córnea, formando una barrera funcional y evitando la pérdida transepidérmica de agua.  	Despigmentante y unificadora: la Niacinamida inhibe la tirosinasa y equilibra la melanogénesis, contribuyendo a la uniformización del tono con el uso continuado en protocolos.  	Hidratación fisiológica: la Urea 0,5% humecta el estrato córneo desde adentro, mejorando la textura y la suavidad percibida al tacto.  Modo de uso — Para profesionales de estética   	Aplicar una capa uniforme sobre rostro, cuello y escote en el paso de protección —fase final del tratamiento.  	Dejar actuar según criterio profesional.  	Retirar con esponjas húmedas o paños tibios.  	Especialmente indicada como paso de cierre en protocolos de peeling, dermapen, limpieza profunda y tratamientos con láser o luz pulsada.  Uso en domicilio: no indicado.  Activos:    	Centella Asiática 5% (Centella Asiatica Extract) — terpenos (colágeno 1 y 3); saponinas venotónicas; omega 6 y 9; xeaxantinas + luteína (HEV); cicatrizante; antiséptica; antiinflamatoria; antioxidante  	Niacinamida 2% (Niacinamide S.) — despigmentante; antiinflamatoria; seborreguladora; antioxidante  	D-Pantenol 2% (Panthenol) — humectante; antiinflamatorio; reparador tisular  	Ceramidas 2% (Phospholipids / Ceramides) — reconstituyen barrera cutánea; evitan PTEA  	Urea 0,5% — humectante fisiológico; suavizante; mejora textura  Contenido: 200 gr pH: 5,5–6,5 Tipo: Máscara reparadora — cicatrizante, reestructurante de barrera, antioxidante, antiinflamatoria, despigmentante, protectora HEV Indicación: Pieles sensibles, reactivas, con rosácea, post-peeling, post-dermapen, post-procedimiento · Uso exclusivo profesional Vegano · Sin Parabenos · Sin Siliconas · Mineral Oil Free · Sin Fragancia · Sin TACC · Libre de Maltrato Animal  INCI: Water; Centella Asiatica Extract; Niacinamide S.; Panthenol; Phospholipids (Ceramides) & Propylene Glycol; Carbomer; Triethanolamine; Phenyl Salicylate & Chloroxylenol & Phenoxyethanol & Farnesol & Dibromohexamidine Diisethionate & Peg-40 Hydrogenated Castor Oil & Ethanol & Chlorphenesin & Water & Polyaminopropyl Biguanide; Urea."
url: https://cymdistribuidora.com.ar/producto/centella-mask-reparadora-restructuante-y-antioxidante-zine/
date: 2025-10-07
modified: 2026-06-12
author: "Juan Martín Díaz"
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availability: instock
stock_quantity: 6
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# Centella Mask – Reparadora Reestructurante y Antioxidante. Zine